產品：粉末衍射儀
型號：D8Advance
產地：德國 粉末衍射儀是一種基于X射線衍射原理，用于分析粉末狀或多晶材料晶體結構的科學儀器。它通過測量X射線與樣品相互作用后產生的衍射圖譜，揭示材料的晶體結構、物相組成、晶格參數等關鍵信息。
工作原理：
1、X射線源：產生單色X射線（如Cu Kα射線，波長約0.154 nm），照射到粉末樣品上。
2、樣品特性：粉末樣品由無數隨機取向的小晶粒組成，確保所有可能的衍射方向均被覆蓋。
3、衍射條件：當X射線波長（λ）、晶面間距（d）和入射角（θ）滿足布拉格方程（2d sinθ = nλ）時，發生相干衍射，產生衍射峰。
4、探測器：記錄衍射角（2θ）和強度，形成衍射圖譜。
布魯克AXS公司全新的D8ADVANCE粉末衍射儀,采用創造性的達芬奇設計,通過TWIN-TWIN光路設計,成功實現了BB聚焦幾何下的定性定量分析和平行光幾何下的薄膜掠入射GID分析、薄膜反射率XRR分析的全自動切換,而無需對光。通過革命性的TWISTTUBE技術,使用戶可以在1分鐘內完成從線光源應用(常規粉末的定性定量分析、薄膜的GID、XRR)到點光源應用(織構、應力、微區)的切換,讓煩人的光路互換、重新對光等問題從此成為歷史!
高精度的測角儀可以保證在全譜范圍內的每一個衍射峰(注意不是一個衍射峰)的測量峰位和標準峰位的誤差不超過0.01度,布魯克AXS公司提供保證!
*的林克斯陣列探測器可以提高強度150倍,不僅答復提高設備的使用效率,而且大幅提高了設備的探測靈敏度。
主要應用：
1、物相定性分析
2、結晶度及非晶相含量分析
3、結構精修及解析
4、物相定量分析
5、點陣參數精確測量
6、無標樣定量分析
7、微觀應變分析
8、晶粒尺寸分析
9、原位分析
10、殘余應力
11、低角度介孔材料測量
12、織構及ODF分析
13、薄膜掠入射
14、薄膜反射率測量
15、小角散射
技術指標:
Theta/theta立式測角儀
2Theta角度范圍:-110～168°
角度精度:0.0001度
Cr/Co/Cu靶,標準尺寸光管
探測器:林克斯陣列探測器、林克斯XE陣列探測器
儀器尺寸:1868x1300x1135mm
重量:770kg
TWIN / TWIN 光路
布魯克獲得專屬發明的TWIN-TWIN光路設計極大地簡化了D8 ADVANCE的操作，使之適用于多種應用和樣品類型。為便于用戶使用，該系統可在4種不同的光束幾何之間進行自動切換。該系統無需人工干預，即可在Bragg-Brentano粉末衍射幾何和不良形狀的樣品、涂層和薄膜的平行光束幾何以及它們之間進行切換，且無需人工干預，是在環境下和非環境下對包括粉末、塊狀物體、纖維、片材和薄膜（非晶、多晶和外延）在內的所有類型的樣品進行分析的理想選擇。
動態光束優化（DBO）
布魯克獨_有的DBO功能為X射線衍射的數據質量樹立了全新的重要基準。馬達驅動發散狹縫、防散射屏和可變探測器窗口的自動同步功能，可為您提供無可_替代的數據質量——尤其是在低2?角度時。除此之外，LYNXEYE全系列探測器均支持DBO：SSD160-2，LYNXEYE-2和LYNXEYE XE-T。
LYNXEYE XE-T
LYNXEYE XE-T是LYNXEYE系列探測器的旗艦產品。它是目前市面上只有這一個一款可采集0D、1D和2D數據的能量色散探測器，適用于所有波長（從Cr到Ag），具有頂點的計數率和更好的角分辨率，是所有X射線衍射和散射應用的理想選擇。
LYNXEYE XE-T具有優于380 eV的能量分辨率，著實出色，是市面上性能更好的熒光過濾器探測器系統。借助它，您可在零強度損失下對由激發的鐵熒光進行100％過濾，而且無需金屬濾波片，因此數據也不會存在偽影，如殘余Kß和吸收邊。同樣，也無需用到會除去強度的二級單色器。
XRPD方法：
· 鑒別晶相和非晶相，并測定樣品純度
· 對多相混合物的晶相和非晶相進行定量分析
· 微觀結構分析（微晶尺寸、微應變、無序…）
· 熱處理或加工制造組件產生的大量殘余應力
· 織構（擇優取向）分析
· 指標化、從頭晶體結構測定和晶體結構精修
對分布函數分析
對分布函數（PDF）分析是一種分析技術，它基于Bragg以及漫散射（“總散射”），提供無序材料的結構信息。其中，您可以通過Bragg衍射峰，了解材料的平均晶體結構的信息（即長程有序），通過漫散射，表征其局部結構（即短程有序）。
就分析速度、數據質量以及對非晶、弱晶型、納米晶或納米結構材料的分析結果而言，D8 ADVANCE和TOPAS軟件替代了市面上性能更好的PDF分析解決方案：
· 相鑒定
· 結構測定和精修
· 納米粒度和形狀
薄膜和涂層
薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同，不過進一步提供了光束調節和角度操控功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質量、殘余應力、織構分析、厚度測定以及組分與應變分析。在對薄膜和涂層進行分析時，著重對厚度在nm和µm之間的層狀材料進行特性分析（從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜）。
D8 ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進行以下高質量的薄膜分析：
· 掠入射衍射
· X射線反射法
· 高分辨率X射線衍射
· 倒易空間掃描
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